Gas to solid Bauteile aus pyrolytischem Bornitrid und Graphit mittels Chemical Vapour Deposition

Aufgrund unseres Gas to solid Verfahrens, jahrelanger Erfahrung und zertifizierten Qualitätssicherungsprozessen können wir die unterschiedlichsten Wünsche und Bedürfnisse unserer Kunden bei der Herstellung von Bauteilen aus pyrolytischem Bornitrid erfüllen.

Gas to solid bedeutet dabei, dass wir ausgehend von verschiedenen Gasen diese im Vakuum bei hoher Temperatur verdampfen und die gasförmigen Teile an einer Form oder einem Bauteil als Festkörper (pyrolytisches Bornitrid/pyrolytisches Graphit) in dünnsten Schichten abscheiden. So können wir aus Gas die benötigten Feststoffe in höchster Reinheit herstellen und mit individuellen Eigenschaften ausstatten.

Verfahren/Prozess Chemical Vapour Deposition

1: Graphitmandrelle
2: Borhalogenide (BF3 und BCI3), Ammoniak (NH3) und Stickstoff (N2) bzw. Kohlenwasserstoffe (Boroon Halide, NH3 und N2)
3: Heizung
4: Pumpe
5: Gaswäscher

Im CVD-Verfahren verwenden wir hochreine Gase wie Borhalogenide (BF₃ und BCl₃), Ammoniak (NH₃) und Stickstoff (N₂) bzw. Kohlenwasserstoffe.

Diese Gase werden bei hoher Temperatur zur Reaktion gebracht und beschichten unter einer kontrollierten Atmosphäre die im Reaktor installierte Graphitmandrelle. Diese dünne Beschichtung wird auf speziell nach Kundenwunsch angefertigten Mandrellen aufgebracht. Die Formgebung erfolgt durch das Graphit-Negativ.
Abhängig vom Graphittyp kann nach dem Prozess die Beschichtung abgenommen werden (freistehendes PBN Bauteil) oder man erhält eine Beschichtung auf dem Graphit (Coating).
Die Bauteile werden dann an der Oberfläche nach Kunden-anforderungen speziell bearbeitet, bevor diese gereinigt, verpackt und dann für den Versand fertig gemacht werden.


Flexibel, widerstandsfähig, rein: die Eigenschaften der CVD-Produkte von CVT

Bei der Herstellung sämtlicher Produkte von CVT, die mittels Chemical Vapour Deposition hergestellt werden, werden höchste Fertigungsstandards eingehalten. Nur so können die Produkte aus pyrolytischem Bornitrid oder Graphit die Ansprüche in Ihrer Anwendung erfüllen.   

Hohe chemische Stabilität

Durch die Reinheit der Produkte und die Präzision in der physikalischen Fertigung erreichen wir Bestwerte hinsichtlich der chemischen Stabilität und damit auch ihrer Prozesssicherheit.

Hohe Reinheit

Die von uns gefertigten CVD-Produkte sind von außerordentlicher Reinheit, die für die chemischen Prozesse und die Qualität der weiteren Prozessschritte maßgeblich ist. Wir erreichen hierbei Werte über 99,99%.

Geringes Ausgasen im Ultrahochvakuum

Selbst unter UHV-Bedingungen und bei höchsten Temperaturen bleiben unsere CVD-Produkte stabil und sicher.

Anisotrope Struktur

Die CVD-Produkte richten ihre Strukturen entsprechend kristallinen Gitterstrukturen aus und weisen somit die gewünschten richtungsabhängigen Struktur-Eigenschaften auf. Dies ist vor allem bei der Wärmeausdehnung zu sehen, da hier ein Verhältnis von ca. 1:10 erkennbar ist.

Geringe thermische Masse

Unsere CVD-Produkte speichern die Wärme aus Schmelz- und Siedeprozessen praktisch nicht, sondern geben diese Wärme direkt an die Umgebung ab.

Elektrischer Isolator

PBN ist nicht elektrisch leitend und dient daher auch als Isolator bei stromführenden Bauteilen.

Maschinell bearbeitbar

Bei Bedarf können die CVD-Produkte auch maschinell weiterbearbeitet werden, um Sonderformen oder spezielle Anwendungen zu ermöglichen.

Hervorragende thermische Schockverträglichkeit

Selbst bei starken und schnellen Veränderungen in der Umgebungstemperatur bleiben unsere CVD-Produkte unbeeindruckt und halten extremen Anforderungen stand.

Flexibel

Unsere CVD-Produkte sind formstabil, aber zugleich flexibel und somit für verschiedene Anwendungen optimal einsetzbar.

Transparenz für Infrarotwellen

Die PBN-Tiegel sind für Infrarotlicht leicht zu durchdringen. Dies ermöglicht Ihnen, IR-Prozesse direkt anzustoßen und die gewünschten Verfahrensschritte ohne weitere Unterbrechungen durchzuführen.