CVD-Verfahren: Präzision und Reinheit durch Chemical Vapour Deposition

Mit unserem innovativen CVD-Verfahren und dem hochmodernen Gas-to-Solid-Prozess bieten wir erstklassige Lösungen für die Herstellung von Bauteilen aus pyrolytischem Bornitrid (PBN) und Graphit (PG). Dank jahrzehntelanger Expertise und zertifizierter Qualitätssicherung erfüllen wir die höchsten Anforderungen unserer Kunden.

Das Gas-to-Solid-Verfahren: Schlüsseltechnologie für das CVD-Verfahren

Das Gas-to-Solid-Verfahren bildet die Grundlage für die Herstellung hochreiner Feststoffe. Dabei werden Gase im Vakuum bei hoher Temperatur verdampft und anschließend als dünne Feststoffschichten – beispielsweise aus pyrolytischem Bornitrid oder pyrolytischem Graphit – auf einer Form abgeschieden. Diese Technologie ermöglicht maßgeschneiderte Materialien mit einzigartigen Eigenschaften.

Ablauf des CVD Beschichtungsverfahrens

1: Graphitmandrelle
2: Borhalogenide (BF3 und BCI3), Ammoniak (NH3) und Stickstoff (N2) bzw. Kohlenwasserstoffe (Boroon Halide, NH3 und N2)
3: Heizung
4: Pumpe
5: Gaswäscher

Der Ablauf des CVD-Beschichtungsverfahrens

Unser CVD-Beschichtungsverfahren (Chemical Vapour Deposition) nutzt hochreine Gase wie:

  • Borhalogenide (BF₃, BCl₃),
  • Ammoniak (NH₃),
  • Kohlenwasserstoffe (CxHy)
  • Stickstoff (N₂)

Die Gase reagieren unter kontrollierten Bedingungen im Reaktor und beschichten die im Prozess eingesetzte Graphitmandrelle. Je nach Kundenanforderung entsteht entweder eine freistehende PBN-Bauteil-Lösung oder eine schützende Beschichtung auf dem Graphit (Coating). Die Teile werden dann nach Kundenanforderungen speziell bearbeitet, bevor diese gereinigt, verpackt und dann für den Versand fertig gemacht werden.

Die Vorteile der CVD-Beschichtung im Überblick

Produkte, die mittels CVD-Verfahren hergestellt werden, zeichnen sich durch zahlreiche Vorteile aus:

Hohe chemische Stabilität

Unsere Produkte gewährleisten maximale Prozesssicherheit durch ihre außergewöhnliche chemische Beständigkeit.

Überragende Reinheit

Mit einer Reinheit von über 99,99% erfüllen unsere Materialien höchste Qualitätsansprüche.

Geringes Ausgasen im Ultrahochvakuum (UHV)

Auch unter extremen Bedingungen bleiben unsere CVD-Produkte stabil und zuverlässig.

Anisotrope Struktur

Dank der kristallinen Ausrichtung bieten die Produkte ideale richtungsabhängige Eigenschaften, z. B. bei Wärmeausdehnung.

Geringe thermische Masse

Unsere Materialien speichern kaum Wärme und geben sie effizient ab.

Elektrischer Isolator

PBN eignet sich hervorragend als Isolator für stromführende Bauteile.

Maschinelle Bearbeitbarkeit

Unsere CVD-Produkte können problemlos weiterverarbeitet und individuell angepasst werden.

Thermische Schockverträglichkeit

Starke Temperaturschwankungen stellen für unsere Produkte kein Problem dar.

Flexibilität

Die Bauteile sind robust und gleichzeitig flexibel für vielseitige Anwendungen einsetzbar.

Transparenz für Infrarotwellen

PBN-Tiegel sind für Infrarotlicht durchlässig und ermöglichen nahtlose IR-Prozesse.

Höchste Standards bei der Herstellung im CVD-Verfahren

Alle Produkte von CVT, die im CVD-Verfahren gefertigt werden, durchlaufen strenge Fertigungsprozesse, die höchste Präzision und Qualität garantieren. Unsere Bauteile aus pyrolytischem Bornitrid und pyrolytischem Graphit überzeugen durch ihre Reinheit, Widerstandsfähigkeit und vielseitigen Anwendungsmöglichkeiten.

Das CVD-Beschichtungsverfahren für Ihre Anforderungen

Unser CVD-Verfahren kombiniert modernste Technologie mit jahrzehntelanger Expertise. Ob Schutzbeschichtung oder freistehendes Bauteil – mit unserer Gas-to-Solid-Technologie und den einzigartigen Eigenschaften unserer Produkte setzen Sie auf Qualität und Innovation.