CVD – Chemical Vapour Deposition
CVT fertigt mittels Chemical Vapour Deposition bzw. chemischer Gasphasenabscheidung Bauteile aus pyrolytischem Bornitrid oder pyrolytischem Graphit. Bei der Fertigung der Tiegel, Schalen, Platten oder Ringe sind wir in der Lage, die Abmessungen und die Formgebung exakt nach den Wünschen unserer Kunden zu gestalten. Durch die konforme Schichtabscheidung des CVD Verfahrens ist somit auch die Beschichtung von komplexen, dreidimensionalen Oberflächen problemlos realisierbar.
CVT fertigt mittels Chemical Vapour Deposition Tiegel, Coatings, Heizer und Bauteile aus pyrolytischem Bornitrid oder pyrolytischem Graphit höchster Qualität und Reinheit.
Das Gas to solid Verfahren, jahrelange Erfahrung und zertifizierte Qualitätssicherungsprozesse garantieren höchste Qualität unserer Produkte für anspruchsvolle Anwendungen.
Bauteile, die mittels Chemical Vapour Deposition hergestellt wurden, finden aufgrund ihrer physikalischen und chemischen Stabilität Anwendung in der Halbleiterindustrie, insbesondere bei OLED und Photovoltaik.
Wahre Reinheit individuell für unsere Kunden
Bei Bedarf können alle Bauteile aus pyrolytischem Bornitrid (PBN) oder pyrolytischem Graphit (PG), die mit dem Chemical Vapour Deposition Verfahren hergestellt wurden, auch maschinell weiter bearbeitet werden. So können wir die individuellen Sonderwünsche unserer Kunden erfüllen.
Aufgrund der hohen Reinheit von über 99,99% finden in der Regel zwischen den Bauteilen aus pyrolytischem Bornitrid (PBN) und den verwendeten Metallen und organischen Stoffen keinerlei chemische Reaktionen statt. Dies sichert die Ergebnisse Ihrer Arbeit und die wirtschaftliche Reproduzierbarkeit von Ergebnissen.
