Chemical Vapour Deposition (CVD) Maßgeschneiderte CVD-Beschichtungen für spezifische Anforderungen

Die Chemical Vapour Deposition (CVD), auch als chemische Gasphasenabscheidung bekannt, ist eine moderne Technologie zur Beschichtung von Oberflächen mit extrem dünnen und reinen Schichten. Dieses Verfahren ist ein essenzieller Bestandteil moderner Fertigungsprozesse und wird in vielen Hightech-Branchen eingesetzt, darunter Halbleitertechnik, Elektronik, Medizintechnik und Raumfahrt.
CVT nutzt die Chemical Vapour Deposition, um hochspezialisierte Bauteile und Beschichtungen zu entwickeln, die in anspruchsvollsten Umgebungen eingesetzt werden können. Mittels des Verfahrens können Bauteile aus pyrolytischem Bornitrid (PBN) oder pyrolytischem Graphit (PG) gefertigt werden. Dazu gehören unter anderem Tiegel, Schalen, Platten und Ringe, deren Abmessungen und Formgebung wir exakt nach den Wünschen unserer Kunden gestalten.
Was ist die chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapour Deposition)?
Die Chemical Vapour Deposition funktioniert nach dem „Gas to Solid“ Verfahren. Dabei werden gasförmige Chemikalien in eine Reaktionskammer geleitet, in der sie auf der Oberfläche eines Substrats chemisch reagieren. Diese Reaktion führt zur Abscheidung einer festen Schicht, die durch ihre exzellente Gleichmäßigkeit, Reinheit und Haftung überzeugt. Die chemische Gasphasenabscheidung ermöglicht die Beschichtung von Bauteilen mit komplexen Geometrien und bietet gleichzeitig höchste Präzision.