Chemical Vapour Deposition (CVD) Maßgeschneiderte CVD-Beschichtungen für spezifische Anforderungen

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Die Chemical Vapour Deposition (CVD), auch als chemische Gasphasenabscheidung bekannt, ist eine moderne Technologie zur Beschichtung von Oberflächen mit extrem dünnen und reinen Schichten. Dieses Verfahren ist ein essenzieller Bestandteil moderner Fertigungsprozesse und wird in vielen Hightech-Branchen eingesetzt, darunter Halbleitertechnik, Elektronik, Medizintechnik und Raumfahrt.

CVT nutzt die Chemical Vapour Deposition, um hochspezialisierte Bauteile und Beschichtungen zu entwickeln, die in anspruchsvollsten Umgebungen eingesetzt werden können. Mittels des Verfahrens können Bauteile aus pyrolytischem Bornitrid (PBN) oder pyrolytischem Graphit (PG) gefertigt werden. Dazu gehören unter anderem Tiegel, Schalen, Platten und Ringe, deren Abmessungen und Formgebung wir exakt nach den Wünschen unserer Kunden gestalten.

Was ist die chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapour Deposition)?

Die Chemical Vapour Deposition funktioniert nach dem „Gas to Solid“ Verfahren. Dabei werden gasförmige Chemikalien in eine Reaktionskammer geleitet, in der sie auf der Oberfläche eines Substrats chemisch reagieren. Diese Reaktion führt zur Abscheidung einer festen Schicht, die durch ihre exzellente Gleichmäßigkeit, Reinheit und Haftung überzeugt. Die chemische Gasphasenabscheidung ermöglicht die Beschichtung von Bauteilen mit komplexen Geometrien und bietet gleichzeitig höchste Präzision.

CVD-Produkte

Entdecken Sie Produkte in höchster Qualität und Reinheit, die CVT mittels der Chemical Vapour Deposition aus pyrolytischem Bornitrid oder Graphit herstellt.

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CVD-Verfahren

Wir fertigen Hightech-Beschichtungen für komplexe Anforderungen mit exzellenter Haftung und Materialreinheit.

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Anwendungsbereiche

CVD bietet Lösungen für anspruchsvolle Branchen – und überzeugt überall dort, wo Präzision und Beständigkeit gefragt sind.

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Vorteile der chemischen Gasphasenabscheidung

Das CVD-Verfahren bietet zahlreiche Vorteile, die es von anderen Beschichtungsverfahren abheben:

  • Hohe Reinheit: Die abgeschiedenen Schichten sind frei von Verunreinigungen und eignen sich ideal für Anwendungen, die höchste Qualität erfordern, wie z. B. in der Halbleiterindustrie.
  • Flexibilität: Es können unterschiedlichste Materialien wie pyrolytisches Bornitrid (PBN) oder pyrolytischer Graphit (PG) abgeschieden werden.
  • Anpassungsfähigkeit: Die chemische Gasphasenabscheidung ermöglicht die Beschichtung von Bauteilen mit komplexen Formen, ohne die Materialeigenschaften zu beeinträchtigen.
  • Langlebigkeit: Die erzeugten Schichten schützen die beschichteten Bauteile vor Korrosion, Verschleiß und chemischen Einflüssen.

Mit CVD zu Ihrer Maßanfertigung

Alle mit dem Chemical Vapour Deposition (CVD)-Verfahren gefertigten Bauteile aus pyrolytischem Bornitrid (PBN) oder pyrolytischem Graphit (PG) können bei Bedarf präzise maschinell weiterbearbeitet werden. So lassen sich auch individuelle Sonderanfertigungen passgenau realisieren – exakt nach den Anforderungen Ihrer Anwendung.

Dank der extremen Materialreinheit von über 99,99 % reagieren PBN-Bauteile in der Regel nicht mit Metallen oder organischen Stoffen. Diese chemische Inertheit gewährleistet stabile Ergebnisse und eine wirtschaftlich zuverlässige Reproduzierbarkeit Ihrer Prozesse – ideal für den Einsatz in sensiblen Umgebungen.

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Erfahren Sie mehr über die Möglichkeiten der Chemical Vapour Deposition (CVD) bei CVT. Unsere Experten beraten Sie gerne, um die beste Lösung für Ihre Anforderungen zu finden.