CVD-Produkte für die Halbleiterindustrie und zur Herstellung von Photovoltaik-Modulen

In der Halbleitertechnik werden Schichten auf Siliciumsubstraten benötigt und die können mithilfe von Chemical Vapour Deposistion hergestellt werden. Bei Siliciumnitrid und Siliciumoxinitrid muss die Schicht durch thermische Zersetzung von Gasen erzeugt werden, die alle benötigten Materialien enthalten. Nur mit dem Chemical Vapour Deposition Verfahren, ist es möglich, Produkte herzustellen, die diese besonderen Anforderungen erfüllen.

 

Die Produkte von CVT finden aufgrund ihrer ausgeprägten physikalischen und chemischen Stabilität daher Anwendung im Bereich der Kristallzucht für die Halbleiterindustrie und sind ebenso im Einsatz bei der Verdampfung von reinen Metallen im Ultrahochvakuum bei Temperaturen bis zu 1.500°C bei der Molekularstrahlepitaxie (MBE). Darüber hinaus werden die Tiegel, Schalen oder bearbeiteten Platten und Ringe aus pyrolytischem Bornitrid oder pyrolytischem Graphit von CVT auch bei der Herstellung von Photovoltaik-Modulen eingesetzt.

Anwendungen für Produkte aus pyrolytischem Bornitrid sind unter anderem:

  • Verdampfung von reinen Metallen im Ultra Hoch Vakuum
    z.B. mit Hilfe der Molecular Beam Epitaxy (MBE)
  • Vertical Gradient Freeze (VGF) Prozess
  • Vertical Bridgman (VB) und Horizontal Bridgman (HB) Prozess
  • Liquid Encapsulated Czochralski (LEC) Kristallzucht
  • Herstellung von aktiven Schichten bei der Produktion von Photovoltaik-Zellen
  • Herstellung von OLED Produkten
  • Reinigung von seltenen Erden oder anderen Metallen